消息稱三星已解決 SOCAMM2 翹曲問題,量產進度有望領先美光、SK 海力士
據報道,三星已攻克其 SOCAMM2 設計中的一項關鍵技術難題。據 ETNews 援引消息人士透露,該公司已解決翹曲(warpage)問題 —— 這是下一代 AI 服務器內存模組 SOCAMM2(System on Chip Advanced Memory Module 2)量產前的主要障礙。報道稱,三星通過應用自研下一代低溫焊料(LTS)技術解決了該問題。
報道指出,翹曲是指元器件在制造過程中因受熱而產生的輕微彎曲,主要由不同材料之間熱膨脹系數(CTE)不匹配引起。SOCAMM2 結構尤為敏感,因為它將 LPDDR5X 芯片組裝成模組并通過螺栓壓緊固定,大幅增加了連接失效的風險。
為解決這一問題,三星將焊接工藝溫度從 260℃ 以上降至 150℃ 以下。通過大幅降低峰值溫度,有效減小了熱膨脹系數不匹配帶來的影響。
SOCAMM2 是一款重要的低功耗內存模組,將與 HBM 配合用于英偉達下一代 AI 平臺 Vera Rubin。報道補充稱,三星通過在 SOCAMM2 上應用低溫焊料(LTS),在研發(fā)與量產進度上被認為獲得了相對于競爭對手的優(yōu)勢。
除溫控外,三星還推出多項設計改良:將芯片配置從雙塔結構改為單塔結構以提升機械剛性;優(yōu)化環(huán)氧塑封料(EMC)的厚度與熱膨脹特性;并采用高精度仿真模型提升翹曲預測精度。
三星、SK 海力士、美光 SOCAMM2 競爭白熱化
AI 半導體市場的競爭正迅速蔓延至 SOCAMM2 領域。《中央日報》稱,三星電子正鞏固其業(yè)內首家量產 192GB SOCAMM2 的地位。報道援引分析師估算,三星對英偉達的供應量有望達到約 100 億 GB,占總需求的 50% 左右。憑借 10nm 級第五代(1b)工藝實現的良率與性能穩(wěn)定,三星預計將在供應份額上領跑。
據 TheElec 消息,SK 海力士正加速在今年轉向第六代(1c)DRAM,此舉有望支撐其包括 SOCAMM2 在內的 AI 內存產品陣容擴張。與此同時,《中央日報》報道,美光已于 3 月初送出全球首款 256GB SOCAMM2 客戶樣片,容量較三星、SK 海力士的 192GB 旗艦產品提升約 33%。









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