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asml 文章 最新資訊

ASML發(fā)布2026年第一季度財報 | 凈銷售額88億歐元

  • 荷蘭菲爾德霍芬，2026年4月15日—阿斯麥（ASML）今日發(fā)布2026年第一季度財報。2026年第一季度，ASML實現(xiàn)凈銷售額88億歐元，毛利率為53.0%，凈利潤達28億歐元。ASML預計2026年第二季度凈銷售額在84億至90億歐元之間，毛利率介于51%至52%；2026年全年凈銷售額預計在360億至400億歐元之間，毛利率介于51%至53%。?（除非特別說明，數(shù)字均以百萬歐元為單位）2025年第四季度2026年第一季度凈銷售額9,7188,767其中裝機售后服務12,1342,488售出
  • 關鍵字： ASML  2026年第一季度財報  

超越摩爾定律：高數(shù)值孔徑極紫外光刻技術重塑先進芯片制造

  • 比利時微電子研究中心（imec）在其位于魯汶的 300 毫米超凈間內，完成了阿斯麥（ASML）EXE:5200 高數(shù)值孔徑（High NA）極紫外（EUV）光刻系統(tǒng)的裝機調試，這是半導體制造與研發(fā)領域的一項里程碑式突破。該系統(tǒng)實現(xiàn)了前所未有的光刻分辨率與工藝控制能力，為 2 納米以下邏輯芯片技術和下一代存儲器架構的研發(fā)奠定了基礎。這套高數(shù)值孔徑極紫外光刻平臺與頂尖的計量、圖形刻制設備及材料體系深度融合，有望大幅縮短技術研發(fā)周期，滿足人工智能和高性能計算應用對芯片制程微縮的需求。高數(shù)值孔徑極紫外光刻技術將傳
  • 關鍵字： 摩爾定律  高數(shù)值孔徑  極紫外光刻  芯片制造  ASML  imec  

Imec 獲得全球最先進的光刻設備ASML EXE:5200

  • Imec 已接收阿斯麥（ASML）EXE:5200 高數(shù)值孔徑極紫外光刻系統(tǒng)，這是目前全球最先進的光刻設備。該設備將讓Imec的合作伙伴提前接觸到下一代芯片微縮技術。這套高數(shù)值孔徑極紫外光刻系統(tǒng)與一整套完整的圖形化、量檢測設備及材料直接集成，將助力 Imec 及其生態(tài)伙伴解鎖所需性能，率先開發(fā)2 納米以下邏輯芯片與高密度存儲技術，為先進人工智能與高性能計算的發(fā)展提供動力。“過去兩年是高數(shù)值孔徑（0.55NA）極紫外光刻技術發(fā)展的重要篇章，Imec 與 ASML 攜手產業(yè)生態(tài)，在荷蘭費爾德霍芬的聯(lián)合高 NA
  • 關鍵字： Imec  光刻設備  ASML  EXE:5200  

傳ASML布局混合鍵合設備，精準技術優(yōu)勢或重塑先進封裝市場格局

  • 光刻機龍頭企業(yè)阿斯麥(ASML)擬進軍半導體后端設備市場，瞄準高速增長的先進封裝領域，相關傳聞近期再度浮出水面。據(jù)韓國媒體《The Elec》消息，阿斯麥已啟動混合鍵合設備的研發(fā)工作，該技術被公認為下一代芯片封裝的核心關鍵技術。有消息人士透露，阿斯麥已著手開展面向后端工藝的混合鍵合系統(tǒng)架構設計，且近期正攜手外部合作伙伴推進該系統(tǒng)的研發(fā)工作。阿斯麥的潛在合作方包括普羅 drive 科技（Prodrive Technologies）與維迪歐 - ETG（VDL-ETG），二者均為阿斯麥供應鏈體系中的長期合作供
  • 關鍵字： ASML  混合鍵合  設備  先進封裝  

ASML意外大裁員的背后是對半導體發(fā)展失衡的擔憂

  • 這次意外大裁員其實并不意外，很有可能源于ASML對未來半導體產業(yè)發(fā)展失衡狀態(tài)的前瞻而提前進行的戰(zhàn)略調整，面對未來幾年可能遭遇無法預知的狂風巨浪，ASML要搶先一步提升自身陀螺儀的魯棒性。
  • 關鍵字： ASML  裁員  半導體  EUV  

EUV光刻機將成為算力擴張的下一個瓶頸

  • 隨著AI投資狂潮席卷科技行業(yè)，真正限制算力擴張的環(huán)節(jié)在哪里？半導體研究機構SemiAnalysis創(chuàng)始人給出的答案是：瓶頸一直在變。SemiAnalysis是一家近年來在科技和投資圈迅速走紅的半導體研究機構，其研究廣泛被AI公司、云計算廠商以及對沖基金使用。近日，在一次播客訪談中，SemiAnalysis創(chuàng)始人Dylan Patel系統(tǒng)解釋了AI算力擴張背后的供應鏈邏輯。他指出，過去幾年AI算力的限制因素不斷變化，就像打地鼠一樣，一個瓶頸被解決，新的瓶頸就會出現(xiàn)。算力擴張的瓶頸不斷變化Dylan Pate
  • 關鍵字： EUV  光刻機  算力  ASML  

ASML營收創(chuàng)紀錄仍計劃裁員1700人，員工苦等七周不知去留

  • 3 月 15 日消息，荷蘭芯片設備制造商阿斯麥（ASML）在公布全年營收創(chuàng)下 327 億歐元（IT之家注：現(xiàn)匯率約合 2587.64 億元人民幣）紀錄的同時，宣布計劃裁減 1700 個管理崗位。至今已過去約七周，其員工仍不清楚自己是否會失業(yè)。此次裁員主要針對阿斯麥技術與 IT 部門的管理職位，其中荷蘭削減 1400 個崗位，美國削減 300 個，約占公司全球員工總數(shù)的 4%。阿斯麥一名發(fā)言人向荷蘭廣播公司 Omroep Brabant 表示，長期的不確定性已引發(fā)內部不安。“員工們完全不清楚自己的處境。他們
  • 關鍵字： ASML  

阿斯麥宣布裁員 1700 名管理人員七周后，員工仍不知情

  • 荷蘭芯片設備制造商阿斯麥（ASML）希望在 4 月 1 日前獲得工會批準。在這家荷蘭芯片設備巨頭宣布計劃裁減 1700 個管理崗位七周后，其員工仍不清楚自己是否會丟掉工作。此次裁員發(fā)生在阿斯麥創(chuàng)下 327 億歐元年度營收紀錄的背景下。裁員目標為阿斯麥技術與 IT 部門的管理崗位，其中荷蘭 1400 個、美國 300 個，約占公司全球員工總數(shù)的 4%。阿斯麥一名發(fā)言人向荷蘭廣播公司 Omroep Brabant 表示，長期的不確定性已引發(fā)內部不安?！皢T工們完全不知道自己處境如何。他們都在問‘這對我意味著什么
  • 關鍵字： 阿斯麥  ASML  EUV  

ASML 計劃進軍封裝領域

  • 據(jù) ASML 首席技術官馬爾科?皮特斯透露，ASML 正計劃從前道光刻業(yè)務拓展至先進封裝領域?！拔覀冊谘芯啃袠I(yè)未來可能的發(fā)展方向，以及這在封裝、鍵合等方面會提出哪些要求?！?皮特斯對路透社表示，“我們實際上正在研究我們能在多大程度上參與其中，或者我們能為這部分業(yè)務帶來什么增量。我目前正在做的工作之一，就是探索在這個方向上可以形成怎樣的產品組合。”隨著芯粒封裝中的堆疊芯片采用更精細的幾何工藝，ASML 在前道光刻領域無可匹敵的技術積累，使其在開發(fā)封裝設備方面具備天然優(yōu)勢。去年，ASML 推出了一款專門用于封
  • 關鍵字： ASML  封裝  

ASML發(fā)布2025年度報告

  • ?阿斯麥?(ASML)?今日發(fā)布2025年度報告（以下簡稱“年報”）。ASML 2025年報以“攜手推進技術向新”為主題，著重闡述了ASML通過技術發(fā)展推動創(chuàng)新的承諾——依托這些技術能夠制造出性能更強大、能耗更少的芯片，從而幫助解決人類面臨的諸多嚴峻挑戰(zhàn)。ASML的持續(xù)創(chuàng)新有賴于全球半導體生態(tài)系統(tǒng)的密切合作，致力于攜手打造可持續(xù)的解決方案并支持人工智能（AI）的進一步發(fā)展。2025年報回顧了ASML的商業(yè)模式及戰(zhàn)略、公司治理、可持續(xù)發(fā)展以及財務表現(xiàn)情況。本次年報還按照歐洲可持
  • 關鍵字： ASML  

阿斯麥ASML公布EUV光源技術突破，2030年芯片產能或提升50%

  • 2 月 23 日消息，據(jù)路透社今日報道，阿斯麥（ASML）的研究人員表示，他們已找到提升關鍵芯片制造設備光源功率的方法，到 2030 年可將芯片產量提高多達 50%。阿斯麥極紫外（EUV）光源首席技術官邁克爾?珀維斯（Michael Purvis）在接受采訪時表示：“這不是花拳繡腿，也不是那種只能在極短時間內演示可行的東西，這是一個能在客戶實際生產環(huán)境的所有相同要求下，穩(wěn)定輸出 1000 瓦功率的系統(tǒng)?！眻蟮婪Q，隨著周一公布的這一技術進步，阿斯麥旨在通過改進光刻機中技術難度最高的部分，進一步拉開與所有潛在
  • 關鍵字： 阿斯麥  ASML  EUV  光源技術  芯片  產能  

阿斯麥將極紫外光刻機光源功率提升至1000瓦，助力提升芯片良率、降低制造成本

  • 阿斯麥（ASML）宣布將極紫外光刻（EUV）設備的核心光源功率提升至1000 瓦，這一技術突破將直接推動先進制程芯片的生產良率提升，同時有效降低單顆芯片的制造成本，成為先進半導體制造領域的又一重要技術進展。在極紫外光刻技術中，光源功率是決定光刻機生產效率與芯片良率的核心指標之一。更高的光源功率能夠讓光刻機在晶圓曝光過程中，實現(xiàn)更快的光刻速度與更穩(wěn)定的圖案轉移效果：一方面，更高的功率可縮短單晶圓的曝光時間，提升光刻機的單位時間產能；另一方面，穩(wěn)定的高功率光源能減少光刻過程中的圖案偏差、線寬不均勻等問題，大幅
  • 關鍵字： 阿斯麥  極紫外光刻機  光源功率  芯片良率  ASML  EUV  

國產半導體設備加速崛起

  • 據(jù)《日經亞洲》報道，日本研究機構Global Net數(shù)據(jù)顯示，2025年全球芯片設備廠商前20強中有3家中國企業(yè)，較2022年美國出口限制前新增2家。這三家公司分別是北方華創(chuàng)、中微公司和上海微電子。值得注意的是，若將范圍擴大至排名前30名的企業(yè)，還將新增兩家中國企業(yè)：盛美上海和華海清科。北方華創(chuàng)、中微、上海微、盛美上海、華海清科上榜TOP30這一變化既展現(xiàn)了國產設備凸顯群體崛起態(tài)勢，也印證了美國出口管制未達遏制目的，反而倒逼中國半導體供應鏈自主化加速，激發(fā)了本土產業(yè)韌性。北方華創(chuàng)具體排名中，北方華創(chuàng)的排名
  • 關鍵字： 半導體設備  ASML  北方華創(chuàng)  中微公司  上海微電子  DUV  EUV  

ASML報告2025年銷售額為327億歐元

  • ASML Holding NV 交出 2025 年創(chuàng)紀錄財務業(yè)績，印證了先進光刻設備需求的持續(xù)旺盛，以及市場對人工智能驅動的半導體領域投資信心的不斷提升。這家荷蘭半導體設備巨頭公布，2025 年全年凈營收達 327 億歐元，凈利潤為 96 億歐元。對于讀者而言，這份業(yè)績數(shù)據(jù)具有重要參考意義 —— 不僅因為 ASML 處于全球芯片制造生態(tài)的核心位置，更因其發(fā)展前景往往是歐洲及全球各地半導體行業(yè)資本支出、極紫外光刻（EUV）技術普及進度與技術路線圖的領先指標。極紫外光刻業(yè)務增長，推動全年業(yè)績創(chuàng)紀錄ASML20
  • 關鍵字： ASML  光刻  芯片制造  半導體  

ASML計劃裁員4%，簡化技術部門內的決策流程

  • 全球最大的先進芯片荷蘭制造商ASML在公布其銷售額連續(xù)第十三年實現(xiàn)增長后，CEO克里斯托夫·富凱（Christophe Fouquet）在聲明中表示，計劃裁減約1700個工作崗位，作為其技術和IT運營重組的一部分。此次裁員人員主要涉及管理層，人數(shù)約占員工總數(shù)的4%，大部分裁員將在荷蘭進行，美國也有部分職位被裁減。ASML表示，一些領導職位可能不再需要，同時將創(chuàng)建新的工程職位以支持正在進行和未來的項目?！半m然這將使一些受影響的同事能夠轉移到新的崗位，但我們必須承認，有些人將因此離開阿斯麥公司”。此舉旨在加強
  • 關鍵字： ASML  DUV  EUV  
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