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三星電子:2nm良率爬坡好于預期,泰勒廠預計年底完成首批流片

作者: 時間:2026-03-09 來源:IT之家 收藏

3 月 9 日消息,參考韓媒 inews24 的報道,高管代表在出席韓國當地時間本月 5 日舉行的摩根大通投資者會議時表示,其 先進制程的良率爬坡進展好于此前預期,同時考慮將產能利用率低的生產線轉移至先進封裝方向。

對于位于美國得州泰勒的晶圓廠,企業高管表示該項目當前處于設備安裝階段,預計首批晶圓流片將在 2026 年底前完成(考慮到后續工序的用時,對應的首批出貨時間將落在 2027 年)。

而在 HBM 相關業務方面,代表重申了 2026 年銷售額較 2025 年增長 3 倍、市占超越 30% 的目標,此外還稱 HBM3E 的價格今年可能會有所改善。將包含先進制程、存儲器、先進封裝的“交鑰匙”解決方案視為其后 HBM4 世代的關鍵增長點,同時計劃擴大與代工廠伙伴的邏輯芯片定制合作。


關鍵詞: 三星電子 2nm

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