- 資騰科技將亮相SEMICON China國際半導體展，展示CMP（Chemical Mechanical Polishing，化學機械研磨）
超潔凈空氣PVA刷輪。針對埃米時代對晶圓潔凈度與先進制程穩定性的更高要求，該刷輪可有效降低微粒與制
程殘留，縮短預清潔時間，并減少晶圓空片用量，同時實現100%去離子水透水率，全面強化先進制程與先進封
裝良率。
資騰于2026年3月25日至27日參加SEMICON China國際半導體展，并在上海新國際博覽中心N3館 3187號展臺展
示多項先進制程解決方
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資騰 EMICON China CMP超潔凈刷輪 先進制程 良率提升
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