- 不同于CPU處理器等邏輯芯片的制造工藝都精確到具體數值，閃存、內存工藝一直都是很模糊的叫法，比如10nm-class(10nm級別)，只是介于20nm和10nm之間，然后又分為1xnm、1ynm、1znm等不同版本，越來越先進，越來越接近真正的10nm。
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美光 內存 10nm 工藝
- 這幾年，雖然摩爾定律基本失效或者說越來越遲緩，但是在半導體工藝上，幾大巨頭卻是殺得興起。Intel終于進入10nm工藝時代并將在后年轉入7nm，臺積電、三星則紛紛完成了7nm工藝的布局并奔向5nm、3nm。
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臺積電 工藝 2nm
- 國內最大的晶圓代工廠中芯國際今天下午發布Q1季度財報，營收6.7億美元，同比下滑19.5%，凈利潤1227萬美元，同比下滑58%，不過中芯國際表示FinFET工藝研發進展順利，12nm工藝進入客戶導入階段，下一代FinFET工藝研發進度喜人——雖然沒有明確下一代工藝具體是什么，但中芯國際的表態意味著國產10nm或者7nm工藝研發進度還是很不錯的。
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中芯國際 7nm 工藝
- 曾經，先進的制造工藝是Intel狠狠壓制AMD乃至整個半導體行業的絕對大殺器，但現在完全反了過來。Intel 14nm工藝遭遇前所未有危機，至今未能量產，而臺積電、三星一路狂奔，10nm、7nm、5nm相繼上馬。雖然不同家的工藝技術不能完全看一個單純的數字，但不得不承認Intel確實被越甩越遠。 GlobalFoundries放棄7nm、5nm先進工藝研發后，AMD轉向了臺積電，這次算是傍上了大樹，接下來的從桌面到服務器再到筆記本，從處理器到顯卡，統統都是臺積電7nm?！ ?nm之后，臺積電更是還有7n
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AMD TSMC 工藝
- 如何向芯片設計企業推薦最合適的工藝，芯片設計企業應該怎么權衡?不久前，在珠海舉行的“2018中國集成電路設計業年會(ICCAD)”期間，
芯原微電子、Cadence南京子公司南京凱鼎電子科技有限公司、UMC(和艦)公司分別介紹了他們的看法?！ D
從左至右：Cadence南京子公司南京凱鼎電子科技有限公司總裁王琦博士、芯原微電子創始人、董事長兼總裁戴偉民博士、UMC(和艦)公司副總經理林偉圣 先進工藝選擇的考量 芯原微電子創始人、董事長兼總裁戴偉民博士稱，28 nm以前一切是很好的、沒有爭
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芯片 工藝
- 特色工藝純晶圓代工企業——華虹半導體有限公司宣布，其第二代0.18微米5V/40V BCD工藝平臺已成功量產，該平臺具有導通電阻低、高壓種類全、光刻層數少等優勢，對于工業控制應用和DC-DC轉換器等產品是理想的工藝選擇。 第二代0.18微米5V/40V BCD工藝平臺40V DMOS擊穿電壓達到52V，其導通電阻低至 20 mOhm.mm2，達到該節點領先工藝水平，可提高產品的驅動能力，減小芯片面積，擴大高壓管安全工作區（Safe-Operation-A
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0.18 BCD 工藝
- 誠然現階段中國半導體業的發展，可能并非存在哪種模式下一定優越，正是百花齊放的好時代。但是對于它的風險性可能尚缺乏足夠的重視與認識。因為半導體業有許多獨特的規律，其中生產線太分散，不但造成互相爭搶人材，力量不能集中，同時未來要保證生產線的連續運行是十分困難的。因為我們無法與如三星、臺積電、英特爾等大牌廠商相比擬，它們的單條生產線規模大，訂單穩定，設備廠可以從它的提供服務中獲得收益?！ ?莫大康 2018年8月27日 半導體業的最大特征有兩條：一個是摩爾定律，每兩年工藝制程前進一個臺階，基本上同樣工藝
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芯片 工藝
- LED照明燈具無論在制造或是在應用的過程中或多或少都會有問題，下面集合了LED行業人士的心血的98個常見問題，熟知這98個LED燈具問題，先不說稱霸武林，
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LED 應用 工藝
- LED行業發展日新月異，每天都有新信息、新科技出來，競爭猶如逆水行舟不進則退，今天你充電了嗎?LED芯片也稱為led發光芯片，是led燈的核心組件，也就
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LED 芯片 亮度 工藝
- 封裝結構設計、選用合適封裝材料和工藝水平，目前LED封裝結構形式有100多種，主要的封裝類型有Lamp系列40多種、SMD（chip LED和TOP LED）系列30多種、
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LED 封裝形式 工藝
- 半導體產業作為一個起源于國外的技術，很多相關的技術術語都是用英文表述。且由于很多從業者都有海外經歷，或者他們習慣于用英文表述相關的工藝和技術節點，那就導致很多的英文術語被翻譯為中文之后，很多人不能對照得上，或者不知道怎么翻譯。在這里我們整理一些常用的半導體術語的中英文版本，希望對大家有所幫助。如果當中有出錯，請幫忙糾正，謝謝! 常用半導體中英對照表 離子注入機 ion implanter LSS理論 Lindhand Scharff and Schiott theory，又稱“林漢德-斯卡夫-斯
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半導體，工藝
- 晶圓代工之戰，7nm制程預料由臺積電勝出，4nm之戰仍在激烈廝殺。 Android Authority報道稱，三星電子搶先使用極紫外光(EUV)微影設備，又投入研發能取代「鰭式場效晶體管」(FinFET)的新技術，目前看來似乎較占上風。
Android Authority報導，制程不斷微縮，傳統微影技術來到極限，無法解決更精密的曝光顯像需求，必須改用波長更短的EUV， 才能準確刻蝕電路圖。 5nm以下制程，EUV是必備工具。 三星明年生產7nm時，就會率先采用EUV，這有如讓三星在6nm以下的競
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4nm EUV
- 近日路透社報道稱，晶圓代工廠格芯(原格羅方德GlobalFoundries)指控晶圓代工龍頭臺積電涉有不公平的競爭行為，并向歐盟執委會的反壟斷機關要求調查一事。
報道指出，格芯對臺積電的指控包括以忠誠折扣、排他性條款或罰款等方式威脅客戶，這嚴重影響到包括格芯在內的其他行業參與者的競爭力，格芯要求歐盟官方應注意到少數幾家業內參與者獨霸半導體產業的現象。
針對上述消息，格芯發言人向第一財經記者表示，“格芯并未主動向歐盟提起投訴，而是在全面配合歐盟的反壟斷調查。”
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晶圓 工藝
- 科研總是走在實用之前很多年的，已經有許多新的方向在試圖突破。
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工藝 摩爾定律
- 中芯國際雖位居全球第4大專業晶圓代工廠，然傾官方之力扶植的中芯為何連年虧損，與一線大廠漸行漸遠?
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中芯國際 工藝
4nm 工藝介紹
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