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Intel/臺積電/ASML齊捧EUV光刻：捍衛(wèi)摩爾定律
- 日前，中國國際半導(dǎo)體技術(shù)大會（CSTIC）在上海開幕，為期19天，本次會議重點(diǎn)是探討先進(jìn)制造和封裝。其中，光刻機(jī)一哥ASML（阿斯麥）的研發(fā)副總裁Anthony Yen表示，EUV光刻工具是目前唯一能夠處理7nm和更先進(jìn)工藝的設(shè)備，EUV技術(shù)已經(jīng)被廣泛認(rèn)為是突破摩爾定律瓶頸的關(guān)鍵因素之一。Yen援引統(tǒng)計數(shù)據(jù)顯示，截至2019年第四季度，ASML當(dāng)年共售出53臺EUV NXE：3400系列EUV光刻機(jī)，使用EUV機(jī)器制造的芯片產(chǎn)量已經(jīng)達(dá)到1000萬片。他說，EUV已經(jīng)成為制造7nm、5nm和3nm邏輯集成電
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5nm工藝起飛 ASML宣布全新半導(dǎo)體技術(shù)：產(chǎn)能大漲600%
- 提到荷蘭ASML公司，大家都知道他們是全球唯一的EUV光刻機(jī)供應(yīng)商，7nm及以下的工藝生產(chǎn)都要靠他們的設(shè)備。不過ASML不只是光刻機(jī)厲害，今天他們宣布了另外一個新產(chǎn)品——第一代HMI多光束檢測機(jī)HMI eScan1000，適用于5nm及更先進(jìn)工藝，使得產(chǎn)能大漲600%。隨著制程工藝不斷提升，晶圓的制造也越來越復(fù)雜，這也會導(dǎo)致晶圓中的錯誤更多，HMI eScan1000就是一套基于HMI多光束技術(shù)的檢測系統(tǒng)，內(nèi)部也有復(fù)雜的光電子系統(tǒng)，能夠產(chǎn)生、控制多個電子束，然后根據(jù)反射回來的電子束成像來分析晶圓質(zhì)量，并有
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光刻機(jī)制造商ASML：疫情中公司訂單依然強(qiáng)勁
- 據(jù)外媒報道，由于擔(dān)心新型冠狀病毒疫情帶來的不確定性，三星和臺積電的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商ASML宣布撤回2020年第二季度的業(yè)績預(yù)期。不過，這家生產(chǎn)極紫外線(EUV)光刻設(shè)備的荷蘭公司補(bǔ)充說，該公司的設(shè)備訂單依然強(qiáng)勁，需求也沒有變化。ASML首席執(zhí)行官彼得·溫寧克（Peter Wennink）說：“需求前景沒有變化，今年我們沒有遇到任何推遲或取消交易的情況。盡管當(dāng)前形勢充滿挑戰(zhàn)，但到目前為止，我們能夠繼續(xù)保持正常業(yè)務(wù)。”但溫寧克補(bǔ)充說：“目前新型冠狀病毒疫情將如何影響全球GDP發(fā)展、終端市場、我們的制造能力以及
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2021年ASML將推下一代EUV光刻機(jī) 面向2nm、1nm工藝
- 作為全球唯一能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的公司,荷蘭ASML公司去年出售了26臺EUV光刻機(jī),主要用于臺積電、三星的7nm及今年開始量產(chǎn)的5nm工藝,預(yù)計今年出貨35臺EUV光刻機(jī)。目前ASML出貨的光刻機(jī)主要是NXE:3400B及改進(jìn)型的NXE:3400C,兩者基本結(jié)構(gòu)相同,但NXE:3400C采用模塊化設(shè)計,維護(hù)更加便捷,平均維修時間將從48小時縮短到8-10小時,支持7nm、5nm。此外,NXE:3400C的產(chǎn)能也從之前的125WPH(每小時處理晶圓數(shù))提升到了175WPH。不論NXE:3400B還是NXE:
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EUV市場供不應(yīng)求，ASML或取代應(yīng)材登全球半導(dǎo)體設(shè)備龍頭
- 根據(jù)外媒報導(dǎo)，已經(jīng)多年蟬聯(lián)全球半導(dǎo)體設(shè)備龍頭的美商應(yīng)材公司（Applied Materials），2019年可能將其龍頭寶座，讓給以生產(chǎn)半導(dǎo)體制造過程中不可或缺曝光機(jī)的荷蘭ASML，原因是受惠即紫外光刻設(shè)備（EUV）的市場需求大增，進(jìn)一步拉抬了ASML的市占率表現(xiàn)。
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EUV光刻機(jī)需求強(qiáng)勁：ASML超應(yīng)用材料成全球第一大半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)
- 用了將近30年的時間，荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML（阿斯麥）終于要超過Applied Materials（美國應(yīng)用材料公司），成為全球最大的半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)。
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ASML除了光刻機(jī)還有什么秘密武器
- ASML( Advanced Semiconductor Material Lithography)是半導(dǎo)體光刻系統(tǒng)的主要供應(yīng)商，也是EUV系統(tǒng)的唯一供應(yīng)商。根據(jù)Network題為“Sub 100nm光刻:市場分析與戰(zhàn)略問題”的報道，ASML當(dāng)前取得的成績可以匯總為以下幾點(diǎn): 1)ASML占據(jù)EUV光刻市場100%的份額; 2)ASML占據(jù)浸沒式193nm DUV光刻市場93%的份額; 3)ASML占據(jù)248nm DUV光刻行業(yè)73%的份額。 2016年，ASML以31億美元收購了He
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EUV需求巨大！ASML最新財報顯示今年將出貨30臺
- 荷蘭當(dāng)?shù)貢r間1月23日，ASML發(fā)布了去(2018)年第四季度及全年的業(yè)績報告。 報告指出，去年第四季度凈銷售額為31億歐元，凈收入為7.88億歐元，毛利率為44.3%。 具體來看，ASML指出，DUV光刻業(yè)務(wù)中，存儲客戶的需求使得TWINSCAN NXT:2000i保持著持續(xù)增長。同時ASML也提高了該產(chǎn)品的可靠性，據(jù)了解，上一代產(chǎn)品需要六個月才能達(dá)到高可靠性，而該產(chǎn)品僅用了兩個月。 去年全年，ASML凈銷售額為109億歐元，凈收入為26億歐元。 值得注意的是，ASML已與尼康簽署了諒解
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全面起底ASML的EUV光刻技術(shù)
- 用于高端邏輯半導(dǎo)體量產(chǎn)的EUV(Extreme Ultra-Violet，極紫外線光刻)曝光技術(shù)的未來藍(lán)圖逐漸“步入”我們的視野，從7nm階段的技術(shù)節(jié)點(diǎn)到今年(2019年，也是從今年開始)，每2年~3年一個階段向新的技術(shù)節(jié)點(diǎn)發(fā)展。 高端邏輯半導(dǎo)體的技術(shù)節(jié)點(diǎn)和對應(yīng)的EUV曝光技術(shù)的藍(lán)圖。 也就是說，在EUV曝光技術(shù)的開發(fā)比較順利的情況下，5nm的量產(chǎn)日程時間會大約在2021年，3nm的量產(chǎn)時間大約在2023年。關(guān)于更先進(jìn)的2nm的技術(shù)節(jié)點(diǎn)，還處于模糊階段，據(jù)預(yù)測，其量產(chǎn)時間最快也是在2026
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