2008年上海NEPCON期待得可更多

• 　　團隊正計劃在今年4月8日至11日光大會展中心舉辦的中國上展示大量的尖端印刷平臺和生產力工具，以獨有風格慶祝其作為批量印刷引領者的40 周年。到訪者可在得可1B30 展位現場了解其專家技術。 　　Nepcon上海展示的得可技術將反映公司就其期待更多的理念的承諾，特別推出一直以來提供更多價值、生產力和創新的技術突破。其中之一便是得可展臺上全新的Photon Vi平臺，可提供前所未有的大范圍精密印刷。易于為重至16.5磅（7.5公斤）和大至25.4” x 24”（610毫米 x 6
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